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脈沖激光沉積靶臺

簡要描述:脈沖激光沉積靶臺的設計和應用對于脈沖激光沉積系統的性能和實驗結果具有重要影響。通過綜合考慮穩定性、熱隔離、靈活性、靶材均勻性、冷卻機制以及靶材旋轉等因素,可以設計出更加先進、高效和穩定的靶臺,以滿足不同領域和應用的需求。

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  • 廠商性質:經銷商
  • 更新時間:2024-07-10
  • 訪  問  量:352

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品牌其他品牌價格區間10萬-50萬
應用領域化工,生物產業,交通,制藥,綜合安裝法蘭CF100 (1 英寸),CF160 (2 英寸)
真空內長度165 mm (可定制長度)

脈沖激光沉積 靶臺是脈沖激光沉積系統中的關鍵部分,主要用于固定和支撐靶材。靶材是被激光脈沖轟擊以產生材料蒸氣的源材料。

脈沖激光沉積系統中的靶臺設計需要滿足一些關鍵要求:

1. 穩定性:靶臺必須能夠穩定地固定靶材,以防止在激光脈沖過程中靶材的移動或變形。

2. 熱隔離:靶臺還需要有效地隔離靶材從激光產生的熱量,以防止靶材在激光脈沖過程中過熱。

3. 靈活性:靶臺應允許靶材的更換,以便在不同的實驗或生產過程中使用不同的材料。

脈沖激光沉積 靶臺的具體設計可能因不同的系統和應用而有所不同。一些高級的靶臺設計可能包括自動靶材更換系統,以進一步提高生產效率。此外,靶臺的設計還需要考慮到靶材的大小、形狀和重量等因素。

總的來說,脈沖激光沉積靶臺是脈沖激光沉積系統中的重要組成部分,其設計需要滿足穩定性、熱隔離和靈活性等關鍵要求,以確保系統的有效運行和實驗的成功進行。除了上述提到的關鍵要求外,脈沖激光沉積靶臺的設計還需要考慮以下幾個因素:

4. 靶材的均勻性:為了獲得高質量的薄膜,靶材在激光脈沖過程中需要均勻地蒸發。因此,靶臺的設計應確保靶材表面與激光束之間的距離保持恒定,以避免靶材表面的不均勻蒸發。

5. 靶材的冷卻:雖然靶臺需要熱隔離靶材以防止過熱,但靶材仍然需要適當的冷卻機制,以保持其穩定性和延長使用壽命。一些靶臺設計可能包括水冷系統或氣流冷卻系統,以幫助降低靶材的溫度。

6. 靶材的旋轉:為了進一步提高薄膜的均勻性和質量,一些脈沖激光沉積系統配備了靶材旋轉裝置。這種裝置可以在激光脈沖過程中旋轉靶材,以確保靶材表面的不同部分都能夠均勻地暴露在激光束下。

在靶臺的實際應用中,還需要注意以下幾點:

- 在安裝靶材時,需要確保靶材與靶臺之間的接觸緊密,以避免激光脈沖過程中靶材的晃動或脫落。

- 在進行脈沖激光沉積實驗之前,應對靶臺進行校準和調試,以確保激光束能夠準確地聚焦在靶材表面上。

- 在實驗過程中,需要定期檢查靶臺的狀態和靶材的損耗情況,并及時更換或調整靶材,以確保實驗的穩定性和連續性。

總之,脈沖激光沉積 靶臺的設計和應用對于脈沖激光沉積 系統的性能和實驗結果具有重要影響。通過綜合考慮穩定性、熱隔離、靈活性、靶材均勻性、冷卻機制以及靶材旋轉等因素,可以設計出更加先進、高效和穩定的靶臺,以滿足不同領域和應用的需求。


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