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退火爐

簡要描述：退火爐是用于制造半導體元件的制程方法。該制程包括加熱多個半導體晶片以影響其電性能。熱處理旨在達到不同的效果?？梢约訜峋约せ顡诫s劑，使沉積的膜至密化，并改變生長的膜的狀態。

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  • 廠商性質：經銷商
  • 更新時間：2024-07-10
  • 訪  問  量：541

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品牌其他品牌應用領域環保,化工,電子

退火爐是用于制造半導體元件的制程方法。該制程包括加熱多個半導體晶片以影響其電性能。熱處理旨在達到不同的效果?？梢约訜峋约せ顡诫s劑，使沉積的膜至密化，并改變生長的膜的狀態。暴露在高溫下可以修復損壞。該過程稱為退火。 爐子退火可以集成到其他爐子處理步驟中，例如氧化，也可以單獨處理。

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退火爐技術參數

應用領域腔體

  • 半導體。

  • MEMs。

  • 納米技術。

  • LED。

  • 太陽能電池產業。

  • 平板顯示器。

  • 通過使用加圈和水冷不銹鋼法蘭來控製石英管的溫度。

  • 爐管配置：水平，結合傳送機構。

  • 帶有視窗的手動爐門。


配置和優點選件

  • 石英管尺寸：最大12英寸。

  • 單載片或多載片（最多50個晶圓）。

  • 控制精度：<±1°C。

  • 製程氣體：N2、Ar、H2。

  • 最高溫度：最高1700°C。

  • 抽氣閥件前端會有冷凍捕捉器。

  • 易於清潔和維護。

  • 和自動傳送組成在一起。







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