精品久久人人爽天天玩人人妻_欧美另类视频一区二区三区_又大又粗又硬又爽又黄毛片 _国产日韩欧美高清在线_久久精品成人一区二区三区

咨詢熱線

13810961731

當前位置：首頁  >  產品展示  >    >  刻蝕機  >  反應離子蝕刻設備

反應離子蝕刻設備

簡要描述：反應離子蝕刻設備中可以非常精確地控制其蝕刻輪廓、蝕刻速率和均勻性，并具有重復性。等向性蝕刻以及非等向性蝕刻都是可能的。

  • 產品型號：
  • 廠商性質：經銷商
  • 更新時間：2024-07-10
  • 訪  問  量：701

詳細介紹

品牌其他品牌應用領域環保,化工,電子

反應離子蝕刻設備（RIE）中可以非常精確地控制其蝕刻輪廓、蝕刻速率和均勻性，並具有重複性。等向性蝕刻以及非等向性蝕刻都是可能的。image.png

因此，RIE製程是化學物理蝕刻製程，也是半導體製造中用於構造各種薄膜的最重要製程。SYSKEY的系統可以精準的控制製程氣體與電漿製程，並提供高品質的薄膜。

反應離子蝕刻設備參數

應用領域腔體

  • 基礎電漿研究。

  • III-V族化合物半導體蝕刻（GaAsn，InP，GaN）。

  • Si，SiO2，SiNx 蝕刻。

  • 微機電系統。

  • 金屬與矽的蝕刻。

  • 陽極電鍍處理鋁腔。

  • 通過使用水冷系統、加熱器或加熱包來控制腔體溫度。


配置和優點選件

  • 客製化的基板尺寸，最大直徑可達12寸晶圓。

  • 單載片或多載片。

  • 優異的薄膜均勻度小於±5％。

  • 精準流量控制器，氣體分佈高度均勻，最多可容納6條氣體管線。

  • 穩定的溫度控制，將載盤加熱至400°C或冷卻至-20°C。

  • 渦輪分子幫浦。

  • 蝕刻終點偵測（OES，激光）相容性。






產品咨詢

留言框

  • 產品：

  • 您的單位：

  • 您的姓名：

  • 聯系電話：

  • 常用郵箱：

  • 省份：

  • 詳細地址：

  • 補充說明：

  • 驗證碼：

    請輸入計算結果（填寫阿拉伯數字），如：三加四=7