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剝離成形電子束設備

簡要描述：剝離成形電子束設備：對于有些金屬，我們很難使用蝕刻(Etching)方式來完成想要的電路圖案(Circuit Pattern)時，就可以采用 Lift-Off制程來做出想要的金屬圖案。在此過程中，電子束蒸發于在基板表面上沉積所需的薄膜層于犧牲層于基材上，最終在洗去其犧牲層，以得到其電路圖案。

  • 產品型號：
  • 廠商性質：經銷商
  • 更新時間：2024-07-10
  • 訪  問  量：559

詳細介紹

品牌其他品牌應用領域環保,化工,電子

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剝離成形電子束設備介紹：

對於有些金屬，我們很難使用蝕刻(Etching)方式來完成想要的電路圖案(Circuit Pattern)時，就可以採用 Lift-Off製程來做出想要的金屬圖案。在此過程中，電子束蒸發於在基板表面上沉積所需的薄膜層於犧牲層與基材上，最終在洗去其犧牲層，以得到其電路圖案。由於SYSKEY的系統可以精準的控制蒸發速度，因此薄膜厚度和均勻度皆小於+/- 3％。

? 針對Lift-Off製程設計載臺水冷或液態氮冷卻。

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1.準備基板。
2.犧牲薄膜層的沉積。
3.對犧牲層進行圖案化（例如蝕刻），以形成反向圖案。
4.沉積目標材料。
5.洗去犧牲層以及目標材料的表面。
6.最終圖案層：
①基材
②犧牲層
③目標材料

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剝離成形電子束設備參數：

應用領域腔體

  • Lift-Off製程。


  • 客製化的腔體尺寸取決於基板尺寸

    和其應用。

  • 腔體最高可至650 mm。

  • 腔體的極限真空度約為10-8 Torr。

配置和優點選件

  • 客製化的基板尺寸，最大直徑可達

    12寸晶圓。

  • 優異的薄膜均勻度小於±3％。

  • 水冷坩堝的多組坩鍋旋轉電子束源（1/2/4/6坩堝）。

  • 自動鍍膜系統。

  • 具有順序操作或共沉積的多個電子束源。

  • 基板具有冷卻（液態氮溫度低至-70°C）功能。

  • 可以與傳送腔、機械手臂和手套

    箱整合在一起。




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