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超高真空電子束蒸鍍設備

簡要描述：超高真空電子束蒸鍍設備的特征為其真空壓力低于10-8至10-12 Torr，在化學物理和工程領域十分常見。超高真空環境對于科學研究非常重要，因為實驗通常要求，在整個實驗過程中，表面應保持無污染狀態和使用較低能量的電子和離子的實驗技術的使用，而不會受到氣相散射的過度干擾。

  • 產品型號：
  • 廠商性質：經銷商
  • 更新時間：2024-07-10
  • 訪  問  量：572

詳細介紹

品牌其他品牌應用領域環保,化工,電子

超高真空電子束蒸鍍設備介紹

超高真空環境的特徵為其真空壓力低於10-8至10-12 Torr，在化學物理和工程領域十分常見。超高真空環境對於科學研究非常重要，因為實驗通常要求，在整個實驗過程中，表面應保持無污染狀態和使用較低能量的電子和離子的實驗技術的使用，而不會受到氣相散射的過度干擾。在這樣超高真空環境下使用電子束蒸鍍，SYSKEY可以提供高品質的薄膜。

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針對超高真空和高溫加熱設計基板旋轉鍍膜機構，使用陶瓷培林旋轉，並在內部做水冷循環來保護機構以確保長時間運轉的穩定性。

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超高真空電子束蒸鍍設備應用領域腔體

  • 光學材料研究(LED/Laser Diode)。

  • 光電元件。

  • 半導體元件。

  • 客製化的腔體尺寸取決於基板尺寸和其應用。

  • 腔體為使用金屬密封圈並可烘烤至150oC。

  • 腔體的極限真空度約為10-10Torr。

配置和優點選件

  • 客製化的基板尺寸，最大直徑可達8吋晶圓。

  • 優異的薄膜均勻度小於±3％。

  • 具有水冷坩堝的多組坩鍋旋轉電子束源（1/2/4/6坩堝）。

  • 自動鍍膜系統。

  • 具有順序操作或共沉積的多個電子束源。

  • 基板具有冷卻（液態氮溫度低至-70°C）或加熱（溫度最高800°C）等功能。

  • 可以與傳送腔、機械手臂和手套箱整合在一起。

  • 結合離子源、濺鍍槍、熱蒸發源、等離子清潔...。

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