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激光光刻系統PICOMASTER 是一系列直接激光刻錄機，可使用單個激光束創建高分辨率結構。這款多功能、低維護的激光刻錄機可為特征和光柵周期提供分辨率。用戶友好的 PICOMASTER 系列為您的激光光刻挑戰提供了解決方案。

大面積 SEM 成像 通過 CAD 形狀提取在大面積和 3D 中拼接 3D SEM 圖像馬賽克

聚焦離子束掃描電鏡系統用于以 FIB 為中心的納米加工的 FIB-SEM VELION 是一種用于納米科學與工程的新型 FIB-SEM 儀器概念。FIB 納米加工已成為制造三維和高分辨率納米結構（例如等離子體裝置、納米流體、局部注入和功能化）的標準技術

專用電子束光刻系統這些創新、智能配置的電子束光刻系統可以輕松有效地實現納米加工。所有 Raith EBL 系統都配備了高精度激光干涉儀平臺和圖案發生器，可為您的工作提供Z高的精度和速度。其他功能（例如traxx 和 periodixx、無拼接錯誤曝光模式以及Nanosuite（直觀且全面的納米光刻軟件） ）使 Raith 的系統有別于其他納米光刻設備。聯系我們討論哪種系統適合您的需求。

德國電子束曝光主要功能：曝光速度快精度高，可采用大寫場大束流進行曝光，適用于科研及小批量生產中使用；自動化程度高，除了放樣取樣外，整個曝光過程只需要編輯曝光的相關參數，其他過程均可自動完成。

國產電子束光刻主要功能：曝光速度快精度高，可采用大寫場大束流進行曝光，適用于科研及小批量生產中使用；自動化程度高，除了放樣取樣外，整個曝光過程只需要編輯曝光的相關參數，其他過程均可自動完成